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Plasmasysteme

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Magnetron Sputtersystem MSC-3

Leistungsmerkmale:
- Bis zu vier wassergekühlte Magnetron Sputterquellen
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Exzellente Uniformität der Schichtdicke
- Kompatibel mit chemisch
reaktiven und nicht-reaktiven Gasen
- Rotierbarer und
vertikal verstellbarer Substrathalter
- Kundenspezifisches Design
Einsatzgebiete:
- Optische Schichten
- Kratzfeste Schichten
- Transparente und
leitfähige Schichten
- Ant-Reflektions-Schichten
- Dekorative Schichten
Das JE PlasmaConsult GmbH
Magnetron Sputter-Beschichtungssystem MSC-3 System besteht aus fünf
Hauptkomponenten:
- Bis zu vier wassergekühlten, planaren 3" Magnetron-Sputterquellen, aufgebaut auf einen DN 400 ISO-K
Flansch, sowie HF oder DC-Generator
- Vakuumkammer inklusive
Kammertür und Einlass für das Arbeitsgas, Belüftungsventil, sowie zwei Drucksensoren
- Substrathalter montiert auf einen DN 400 ISO-K Flansch,
vertikal verstell- und rotierbar
- Pumpensystem bestehend aus
einer Turbopumpe und einer zweistufigen Drehschieberpumpe als Vorvakuumpumpe.
- Gasverteilungssystem incl.
Massenflussreglern
Technische Daten:
Magnetron Sputterquellen
max. Leistung (DC)
1.250 W
max. Leistung (RF)
750 W
Druckbereich:
3 x 10-3 - 10-1 mbar
max. Target Größe
3"
max. Substratgröße
4"
Basisdruck:
<10-5
mbar
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