Plasmasysteme

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Magnetron Sputtersystem MSC-3

Leistungsmerkmale:

  • Bis zu vier wassergekühlte Magnetron Sputterquellen
  • Exzellente Uniformität der Schichtdicke
  • Kompatibel mit chemisch reaktiven und nicht-reaktiven Gasen
  • Rotierbarer und vertikal verstellbarer Substrathalter
  • Kundenspezifisches Design


Einsatzgebiete:

  • Optische Schichten
  • Kratzfeste Schichten
  • Transparente und leitfähige Schichten
  • Ant-Reflektions-Schichten
  • Dekorative Schichten

 

Das JE PlasmaConsult GmbH  Magnetron Sputter-Beschichtungssystem MSC-3  System besteht aus fünf Hauptkomponenten:

  • Bis zu vier wassergekühlten, planaren 3" Magnetron-Sputterquellen, aufgebaut auf einen DN 400 ISO-K Flansch, sowie HF oder DC-Generator
  • Vakuumkammer inklusive Kammertür und Einlass für das Arbeitsgas, Belüftungsventil, sowie zwei Drucksensoren
  • Substrathalter montiert auf einen DN 400 ISO-K Flansch, vertikal verstell- und rotierbar
  • Pumpensystem bestehend aus einer Turbopumpe und einer zweistufigen Drehschieberpumpe als Vorvakuumpumpe.
  • Gasverteilungssystem incl. Massenflussreglern

 

Technische Daten:

Magnetron Sputterquellen

max. Leistung (DC)                  1.250 W

max. Leistung (RF)                    750 W

Druckbereich:                       3 x 10-3 - 10-1 mbar

max. Target Größe               3"

max. Substratgröße              4"            

Basisdruck:                           <10-5 mbar