Halb-automatisiertes Plasmasystem mit einer Holhkathoden-plasmaquelle und einem gekühlten/beheizten Substrathalter. Die Hohlkathodenquelle basiert auf dem einfachen und dennoch effektiven Hohlkathodeneffekt zur Plasmaerzeugung. Hohe Plasmadichten bei vergleichsweise niedrigen Kosten sind die Folge. Erfahren Sie mehr in unserer Tech Library.
Das ICP-PECVD System verwendet eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle zur Plasmaerzeugung. Hohe Plasmadichten sind die Folge. Das System eignet sich besonders zur Abscheidung von hochqualitativen Schichten wie z.B. DLC, optischen Schichten etc. insbesondere für Forschungszwecke. Erfahren Sie mehr in unserer Tech Library.
Das Magnetron-Sputtersystem der JE PlasmaConsult GmbH verfügt über bis zu 4 Sputterquellen und drehbaren Substrathalter. Damit können außergewöhnlich homogene Schichten und Schichtsysteme abgeschieden werden. Erfahren Sie mehr in unserer Tech Library.
Das SteriPlas System ist ausgelegt für industrielle Anwendungen im Bereich der Plasmasterilisation. Dabei steht vor allem die Sterilisation von thermisch empfindlichen Materialien, wie z.B. Kunststoffen, im Vordergrund. Erfahren Sie mehr in unserer Tech Library.
Klicken Sie auf das Bild, um nähere Informationen zu erhalten, oder rufen Sie unseren Spezialisten an:
Herr Dr. Axel Schwabedissen 0202 -28397-121
Auf Wunsch senden wir Ihnen gerne mehr technische Informationen zu: Bitte hier klicken