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Plasmaquellen
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HCD-L300 Die 13.56 MHz Hohlkathodenquelle basiert auf dem einfachen und dennoch effektiven Hohlkathodeneffekt zur Plasmaerzeugung. Hohe Plasmadichten bei vergleichsweise niedrigen Kosten sind die Folge. Die HCD-L 300 Quelle verfügt über lineare Anregungsstrukturen und ist durch ihre modulare Bauweise beliebig skalierbar. Finden Sie mehr heraus über Applikationen mit der HCD-L 300 in unserer Tech Library
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HCD-P 100 Die 13.56 MHz Hohlkathodenquelle basiert auf dem einfachen und dennoch effektiven Hohlkathodeneffekt zur Plasmaerzeugung. Hohe Plasmadichten bei vergleichsweise niedrigen Kosten sind die Folge. Die HCD-P 100 verfügt über eine planare Anregungsstruktur. Finden Sie mehr heraus über Applikationen mit der HCD-P 100 in unserer Tech Library |
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ICP-P 200 Bei der ICP-P 200 handelt es sich um eine 13.56 MHz induktiv gekoppelte, also elektrodenlose Plasmaquelle. Sie zeichnet sich durch ihren großen Leistungsbereich aus und ist für unterschiedlichste Plasmaprozesse geeignet. Finden Sie mehr heraus über Applikationen mit der ICP-P 200 in unserer Tech Library |
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SLAN I DS Die SLAN I DS stammt aus der Familie unserer Mikrowellen-Plasmaquellen. Die Mikrowellen-Plasmaquellen zeichnen sich durch extrem hohe Plasmadichten aus, sodass sie besonders für anspruchsvolle Anwendungen geeignet sind. Finden Sie mehr heraus über Applikationen mit der SLAN I DS in unserer Tech Library |
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µ-SLAN Auch die µ-SLAN stammt aus der Familie unserer Mikrowellen-Plasmaquellen. Dabei zeichnet sie sich besonders durch ihre kompakte Bauform aus. Finden Sie mehr heraus über Applikationen mit der µ-SLAN in unserer Tech Library |
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Klicken Sie auf das Bild, um nähere Informationen zu erhalten, oder rufen Sie unseren Spezialisten an: Dr. Dariusz Korzec, 0941/4090-9102 Auf Wunsch senden wir Ihnen gerne mehr technische Informationen zu: Bitte hier klicken
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